Samsung kupi urządzenia do EUV

9 maja 2016, 10:00

Samsung Electronics chce wykorzystywać litografię w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) w swoim procesie produkcyjnym. Firma ma zamiar konkurować z takimi gigantami jak TSMC. Dlatego też koreański koncern kupić urządzenia NXE3400 holenderskiej ASML



Zasięg występowania lampartów zmniejszył się o 75%

6 maja 2016, 05:23

Lampart plamisty, jeden z najbardziej charakterystycznych wielkich kotów, stracił 75% terenów, na których żył w przeszłości. Specjaliści z National Geographic Society, Zoological Society of London, organizacji Panthera oraz Cat Specialist Grop IUCN przeprowadzili pierwsze szeroko zakrojone analizy dotyczące lamparta i wszystkich jego podgatunków.


CDC uznaje związek pomiędzy mikrocefalią a wirusem Zika

15 kwietnia 2016, 09:51

Amerykańskie CDC (Centrum Kontroli i Zapobiegania Chorobom) oficjalnie ogłosiło, że istnieje związek przyczynowo skutkowy pomiędzy wirusem Zika a mikrocefalią u niemowląt. Dotychczas jedynie podejrzewano występowanie takiego związku


Galaktyki superspiralne - olbrzymi kuzyni Drogi Mlecznej

18 marca 2016, 11:54

Astronomowie odkryli nową klasę galaktyk. Nazwano je galaktykami superspiralnymi, gdyż są znacznie większe od Drogi Mlecznej, a rozmiarami i jasnością mogą konkurować z największymi znanymi galaktykami


Nowatorska metoda pomiaru pH w skali nano

15 marca 2016, 13:16

Nowatorską metodę pomiaru pH w nanoskali właśnie zaprezentowali naukowcy z Instytutu Chemii Fizycznej PAN w Warszawie.


EUV coraz bliżej

4 marca 2016, 07:22

W końcu jasna przyszłość rysuje się przed litografią w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV). Producenci układów scalonych z niecierpliwością czekają na tę technologię, gdyż pozwala ona na naświetlenie plastra krzemowego w jednym przebiegu


© Intel

Prawo Moore'a przetrwa CMOS

3 lutego 2016, 09:59

Prawo Moore'a przeżyje technologię CMOS i będzie obowiązywało w odniesieniu do przyszłych technik wytwarzania układów scalonych, uważa Wiliam Holt z Intela. Holt, odpowiedzialny w Intelu za wydział technologii i produkcji, nie zdradził, którą z technologii mających zastąpić CMOS wdroży jego firma


EUV zadebiutuje w 2018 roku?

25 stycznia 2016, 15:30

Wszystko wskazuje na to, że litografia w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV) będzie gotowa na czas, by wykorzystać tę technologię do produkcji układów scalonych w procesie 7 nanometrów.


Inżynier IBM-a sprawdza 300-milimetrowy plaster z układami CMOS© IBM

Ruszyły prace nad 5 nanometrami

21 grudnia 2015, 10:16

Koncern TSNM rozpoczął prace nad 5-nanometrowym procesem technologicznym. Jednocześnie firma wciąż nie zdecydowała, czy będzie używała litografii w ekstremalnie dalekim ultrafiolecie (EUV)


Ekstremalne burze słoneczne częstsze niż sądzono

28 października 2015, 10:39

Na Grenlandii i w Antarktyce znaleziono kolejne dowody potwierdzające, że przed 1300 laty Ziemia doznała skutków potężnej burzy słonecznej. Wydaje się, że ekstremalnie silne burze mają miejsce częściej niż sądzono. Zjawiska takie mogą poważnie zagrozić naszej cywilizacji, która w wysokim stopniu polega na elektronice


Zostań Patronem

Od 2006 roku popularyzujemy naukę. Chcemy się rozwijać i dostarczać naszym Czytelnikom jeszcze więcej atrakcyjnych treści wysokiej jakości. Dlatego postanowiliśmy poprosić o wsparcie. Zostań naszym Patronem i pomóż nam rozwijać KopalnięWiedzy.

Patronite

Patroni KopalniWiedzy